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* 2014 碳化硅单晶抛光片
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* 2008 Characterization of defects in silicon carbide by Raman spectroscopy
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* 2011 Determination of the transport properties in 4H-SiC wafers by Raman scattering measurement
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* 1997 Light scattering by a multicomponent plasma coupled with longitudinal-optical phonons: Raman spectra of p-type GaAs:Zn
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* 2008 n-SiC 的电子拉曼散射及二级拉曼谱研究
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* 2010 n-SiC拉曼散射光谱的温度特性
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* 2015 Probing optical phonon thermal and defect properties of 3C-SiC Si (001)
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* 2008 Raman analysis of defects in n-type 4H-SiC
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* 1972 Raman Scattering from Electronic Excitations in n-Type Silicon Carbide
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* 2016 Raman scattering properties of structural defects in SiC 讨论了 6H-SiC 中一些缺陷的拉曼特征
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* 1999 Resonance enhancement of electronic Raman scattering from nitrogen defect levels in silicon carbide
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* 1997 Raman Investigation of SiC Polytypes
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综述,前半部分研究晶型、层错、离子注入损伤导致的拉曼,后半部分电子性质导致的拉曼。
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有讨论到 p-SiC,他认为自由电子会贡献一个连续带,直到大约 1000 cm-1。更详细的讨论在引用文献 54(未发表)和 55(Si)
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* Interaction between electronic and vibronic Raman scattering in heavily doped silicon
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* Spatial characterization of doped SiC wafers by Raman spectroscopy
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* 2005 Raman scattering characterization on SiC
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内容杂,不好概括,但与 p 型无关
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* 2005 Deep ultraviolet Raman scattering characterization of ion-implanted SiC crystals
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使用拉曼研究 SiC 离子注入再退火后,恢复得怎样。使用的是 p 型外延的 SiC。
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* 2006 Raman spectroscopy study of heavy-ion-irradiated α-SiC
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研究 3C 离子注入后,拉曼如何改变。其中提到了 Si-Si 与 C-C 键的拉曼峰的位置。
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* 2010 Effect of doping on the Raman scattering of 6H-SiC crystals
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这个看起来有正经研究我们需要的内容,需要仔细看看。
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他认为,掺杂之后,无论是 N 还是 Al,6H 的一阶峰都会红移,而二阶峰不受到影响。
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SiC/碳化硅晶体材料缺陷图谱.pdf
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SiC/碳化硅晶体材料缺陷图谱.pdf
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SiC/碳化硅晶体生长与缺陷.pdf
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SiC/碳化硅晶体生长与缺陷.pdf
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# Deep ultraviolet Raman scattering characterization of ion-implanted SiC crystals
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## Abstract
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在两个不同的温度(室温、500 摄氏度)下离子注入 P,并在不同温度下退火,然后使用拉曼研究注入量和恢复情况。
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拉曼/Detection of stacking faults in 6H-SiC by Raman scattering.pdf
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拉曼/Detection of stacking faults in 6H-SiC by Raman scattering.pdf
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拉曼/Effect of Impurities on the Raman Scattering of 6H-SiC Crystals.pdf
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拉曼/Effect of Impurities on the Raman Scattering of 6H-SiC Crystals.pdf
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拉曼/Effect of doping on the Raman scattering of 6H-SiC crystals.pdf
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拉曼/First- and second-order Raman scattering from semi-insulating 4H-SiC.pdf
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拉曼/First- and second-order Raman scattering from semi-insulating 4H-SiC.pdf
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# Formation and annealing of nitrogen-related complexes in SiC
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拉曼/Formation and annealing of nitrogen-related complexes in SiC.pdf
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拉曼/Formation and annealing of nitrogen-related complexes in SiC.pdf
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拉曼/Light Scattering in Solids I.md
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拉曼/Light Scattering in Solids I.md
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resonant Raman scattering 是什么?似乎是需要两个激光?
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@@ -44,9 +44,26 @@ p型的情况更复杂。一方面载流子迁移率更低,一方面空穴往
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将这三种因素加起来,就是总的极化率的变化。
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最终的结果是,通常情况下,CPPM 有两部分组成,一部分是声子的贡献,是实数,一部分是电荷密度的抖动造成的影响,是虚数,两者可以直接相加。但如果激光的能量接近禁带的能量,就会有别的效应;在我们的论文中避免了这种情况。
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最终的结果是,通常情况下,CPPM 有两部分组成,一部分是声子的贡献,是实数,一部分是电荷密度的抖动造成的影响,是虚数,两者可以直接相加。
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但如果激光的能量接近禁带的能量,就会有别的效应;在我们的论文中避免了这种情况。
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这里记录一下我还没有理解的地方:
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* 为什么拉曼散射强度随空间角的变化是这个公式:
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$$
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I = \frac{\partial^2\sigma}{\partial\Omega\partial\omega} = \left(\frac{\omega_s}{c}\right)^4
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\left(\frac{\omega_s}{\omega_l}\right)^2\frac{V^2}{2\pi} \int \dd t \exp(i\omega t)
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\langle i|\delta\chi(q, t)\delta\chi^\dagger(q,0)|i\rangle
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$$
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* 为什么强度与电极化率的变化的平方成正比?(从量子力学的角度解释)
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* 电子或空穴的有效质量是如何定义的?(为什么可以用于静电场以外的情况)
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* plasmon的频率是如何计算出来的?如何理解这个频率?
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* plasmon的阻尼到底有来自哪些的因素?(自发辐射,声子)
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*
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拉曼/Optical Properties of Vanadium and Nitrogen Doped 4H and 6H-SiC.pdf
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拉曼/Optical Properties of Vanadium and Nitrogen Doped 4H and 6H-SiC.pdf
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这里提到,630 附近的那个峰可能是替位杂质导致的
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拉曼/Raman Investigation of SiC Polytypes.pdf
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拉曼/Raman Investigation of SiC Polytypes.pdf
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# Raman Scattering from Electronic Excitations in n-Type Silicon Carbide
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这篇文章主要研究了两片 6H,N 掺杂浓度分别为 4E18 和 6E19。此外还顺便研究了一下 15R。
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6H 有三个自旋谷分裂导致的峰,分别在 13.0 60.3 62.6 meV,它们分别对应于 h 位和两个 k 位,并且都是 1s(A1)到 1s(E)的跃迁。
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TODO:这里的 1s 是指什么?
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由此可以推测,导带底应该在 ML 线上。
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对于 LOPC,L+ 严重地左右不对称,L- 很小并且很宽。
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拉曼/Raman Scattering from Electronic Excitations in n-Type Silicon Carbide.pdf
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拉曼/Raman Scattering from Electronic Excitations in n-Type Silicon Carbide.pdf
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拉曼/Raman Scattering in Materials Science.md
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拉曼/Raman Scattering in Materials Science.md
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基本都是光子的电场与电子耦合得到散射。
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磁场的耦合很小。原子核直接与光子的耦合也很小。
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这本书认为是 electric susceptibility
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resonant Raman processes 就是让激光的频率接近禁带,由此导致带间(inerband)跃迁,这个过程可以增强拉曼散射,以此看到更多较弱的过程。
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并且有许多更多的性质。这个研究可能最近几年比较火。
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包括一些表面的电子行为,这可以用来研究量子阱和超晶格等二维结构。
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对于声子引起的高次拉曼散射,可以不是 Gamma 点的,只要它们的 q 的合等于光子的 k 的变化(差不多是零)就可以了。
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这个过程与声子的态密度有关,一般发生在频率随 q 的偏导数为零的地方(称为 critical points)。
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当平移对称性被破坏后,k 可以不守恒。这包括缺陷的聚集、固溶体、合金、非晶体。
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对于没有破坏的方向,有时仍然可以使用 k 来表示(仍然守恒)
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对于有强烈吸收的材料,k 也会不守恒。这时 k 被定义为一个复数,虚部有特别的定义。
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这时,一个范围内的声子都可以被激发,这个范围大概是 kL 的虚部加上 kS 的虚部。
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光谱中主要部分将仍然是 Gamma 附近的,但其它 critical points 的结果也会有。
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对于一次拉曼过程,对应于 \chi 对原子坐标的一阶导数。二次拉曼则对应于二阶导数。
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求导过程也不局限于声子,plasma wave(即 plasmon)也是可以的。
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有时也不一定用声子而是更局域的变量,例如考虑磁振子(magnon)时。
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这些都是宏观理论。
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本书认为,拉曼散射强度正比于 $| e_s \delta \chi e_L |^2$。
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$$
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\delta \chi = \sum R_{ij} Q + ...
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$$
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本书认为,大多情况下,$R_{ij}$ 是对称的,只有当接近共振(是指什么共振?)时,才会有反对称的成分。
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这是由于时间反演对称性导致的(为什么?)
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对于没有时间反演对称性的情况(例如,磁振子,或与自旋翻转有关的过程),拉曼张量将会主要是反对称的。(为什么?)
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可以比较背散射情况下,垂直和平行偏振时,强度的比值。一般这个比值在0到0.75之间。
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对于 \delta\chi 只有对角线元素的情况,这个比值很小,称为 polarized mode,对于这个比值比较大的情况,称为 depolarized mode。
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在共振的情况下,根据群论推导出来的禁止的模式可能会变得允许,甚至比原本允许的模式更强。
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stokes 和 反 stokes 的强度与温度有关,这并不令人惊讶。然而细节上来说,它是如何推导到的呢?
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拉曼/Raman scattering characterization on SiC.pdf
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拉曼/Raman scattering characterization on SiC.pdf
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拉曼/Raman scattering study on phonon anisotropic properties of SiC.pdf
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拉曼/Raman scattering study on phonon anisotropic properties of SiC.pdf
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Raman spectroscopic study of femtosecond laser-induced phase transformation associated with ripple formation on single-crystal SiC
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拉曼/Raman spectroscopy study of heavy-ion-irradiated α-SiC.pdf
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拉曼/Raman spectroscopy study of heavy-ion-irradiated α-SiC.pdf
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@@ -0,0 +1,15 @@
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# Resonance enhancement of electronic Raman scattering from nitrogen defect levels in silicon carbide
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* 提到了 Fano 共振,引用了文献 6
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* 提到了 4H 中共 4 个与 N 有关的峰,三个在 400-600 之间,一个在 57 处(需要在低温下才能看到)。
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认定这些峰是测试了不同浓度的片子,发现随着浓度升高而出现了这些峰;没有解释原理。
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注意峰的个数比 N 掺杂的位点要多。
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530 处的峰他认为可能还有隐藏的(因为 530 的峰不对称)。
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作者认为可能与 N 的振动有关,但没有给定理由。
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* 500 开始到之后,出现了一个底座(pedestral),他们认为是与某种二阶散射有关,对应文献 11 15
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* 随着掺杂浓度增加,530 的峰会左移。
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* 200 处的 Fano 共振,引用了文献 10
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* 对于 6H 中的各种可能与 N 有关的峰,作者与其它文献做了对比,结果一致,包括 6 8
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* 掺杂的片子带有一些绿色,表示它们在红色和红外附近有一些吸收(引用了文献 16 17),它们认为可能与 N 杂质能级有关,
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可能是掺杂导致的深能级。
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关于金刚石中的 N 掺杂引起的深能级,引用了文献 18。关于使用红外测试这些深能级,引用了文献 19 20 21
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拉曼/Spatial characterization of doped SiC wafers by Raman spectroscopy.pdf
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拉曼/Spatial characterization of doped SiC wafers by Raman spectroscopy.pdf
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# Spin exchange dynamics in 4H SiC monocrystals with different nitrogen donor concentrations
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# The Quantum Theory of Radiation
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这本书可能是因为年代久远,一些定义与我们的不同。
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* $\nu$ 直接表示圆频率而不是频率,即为我们的 $2\pi\nu$。
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* $k$ 的大小为一个光子的能量而不是我们的波矢,即为我们的 $\hbar ck$
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## I. Classical Theory of Radiation
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### 1. The General maxwell-Lorentz Theory
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#### 1. Field Equations
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没有什么新奇的东西,就是介绍了一下麦克斯韦方程组。
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$$
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$$
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注意这里并没有讨论任何的电介质,也就是这里的 $H$ 只是 $B$ 的一种方便的写法,定义是:
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$$
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H = \frac{1}{\mu_0} B
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$$
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#### 2. Potentials
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引入了矢势和标势。
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矢势的旋度有公认的定义,但散度有不同的规范。除此以外还差一个常数,但这个常数无关紧要,因为(至少到目前为止),所有使用矢势的地方都是用的它的导数。
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标势的定义是公认的,在静电场中,它与通常的电势一致。它也有一个不确定的常数,基于同样的理由,这个常数无关紧要。
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公认的是:
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$$
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H = \nabla\times A \\
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E + \frac1c \pdv{A}{t} = - \nabla \varphi
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$$
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洛仑兹规范是指:
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$$
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\nabla\cdot A + \frac1c \pdv{\varphi}{t} = 0
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$$
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基于此规范,麦克斯韦方程组中的场量($E$ 和 $H$)可以被完全抛弃掉,麦克斯韦方程组完全等价于:
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$$
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\begin{aligned}
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\frac{1}{c^2}\pdv[2]{A}{t} - \nabla^2 A &= \frac{4\pi}{c} \rho v \\
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\frac{1}{c^2}\pdv[2]{\varphi}{t} - \nabla^2 \varphi &= 4\pi \rho
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\end{aligned}
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$$
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注意这时,$A$ 和 $\varphi$ 仍然没有完全确定,也就是其中仍然包含过多的信息(除了上述的常量)。具体来说,这个过多的信息是:任取一个标量场,使得它满足:
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$$
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\nabla^2\chi -\frac{1}{c^2}\pdv[2]{\chi}{t}=0
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$$
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那么,将 $A$ 替换为 $A + \nabla\chi$,$\varphi$ 替换为 $\varphi - \frac{1}{c}\pdv{\chi}{t}$,得到的结果依然是等价的。
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如果使用库伦规范:
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$$
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\nabla \cdot A = 0
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$$
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那么,麦克斯韦方程组中的场量也可以完全抛弃,但得到的式子不对称:
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$$
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\begin{aligned}
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\frac{1}{c^2}\pdv[2]{A}{t} - \nabla^2 A + \frac1c \nabla \pdv{\varphi}{t} &= \frac{4\pi}{c} \rho v \\
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\nabla^2 \varphi &= -4\pi \rho
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\end{aligned}
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$$
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可以看到,在这种情况下,标势完全是静电势(哪怕实际上不是静电场)。
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之后用得比较多的是洛仑兹规范。
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#### 3. Retarded potentials
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介绍了延迟势的概念。即:如果认为所有的电磁场追根究底都是由于电荷引起的,那么某一个位置上的势,由其它位置、一段时间之前的电荷密度(或电流密度)决定,具体多久时间之前取决于两点之间距离。这个结果就是之前麦克斯韦方程组的解。
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具体来说,在库伦规范下,可以推导得到:
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$$
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\varphi(r) = \int \frac{\rho(r')}{|r - r'|} \dd{r'}
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$$
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在洛伦兹规范下,可以推导得到:
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$$
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\begin{aligned}
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\varphi(r, t) &= \int \frac{\rho(r', t - |r - r'|/c)}{|r - r'|} \dd{r'} \\
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A(r) &= \frac1c \int \frac{(\rho v)(r', t - |r - r'|/c)}{|r - r'|} \dd{r'}
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\end{aligned}
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$$
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由这两个结果,加上洛仑兹规范的定义,原则上就可以解出所有的电磁场。
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#### 4. Energy and momentum balance
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接下来提到“动量”时,实际指的都是动量乘以光速,这个量具有能量的单位,比较容易处理。
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接下来它推导了电磁场的能量,以及在电磁场中粒子的运动(假定它只受电磁力)。推导结果与绝大多数教科书一致,即假定电磁场能量为 $E\times H$,也即将被影响的微观粒子的动能也计入电磁场的能量。
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### 2. Lorentz invariance, momentum, and energy of the field
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#### 1. Lorentz transformations
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定义四维坐标,前三个维度就是空间坐标,第四个维度是 $ict$。把四维坐标记为 $x$。
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这里还讨论了,如果一个函数或者张量在洛仑兹变换下不变,那么它们需要具有什么样的性质。
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#### 2. Invariance of the Maxwell equations
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在使用洛仑兹规范时,可以将麦克斯韦方程组写成一个方程(通过将三维的向量和张量都补全成四维),这个方程在洛伦兹变换下保持不变。具体来说,包括:
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* 将电荷密度和电流密度组装成一个四维向量 $i$,第四个维度是 $ic\rho$。
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* 将矢势和标势组装成一个四维向量,第四个维度是 $i\varphi$。这时洛仑兹规范写为:
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$$
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\sum_\mu \pdv{A_\mu}{x_\mu} = 0
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$$
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麦克斯韦方程组写为:
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$$
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\nabla^2 A = -\frac{4\pi}{c}i
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$$
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* 将电磁场写为一个反对称张量:
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$$
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f =
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\begin{pmatrix}
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0 & H_z & -H_y & -iE_x \\
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-H_z & 0 & H_x & -iE_y \\
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H_y & -H_x & 0 & -iE_z \\
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iE_x & iE_y & iE_z & 0
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\end{pmatrix}
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$$
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麦克斯韦方程组也有对应的写法。
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#### 3. The lorentz force. Momentum and energy of a particle
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考虑带电物质在电磁场中的受力。按照通常的想法定义力密度 $k$,可以知道:
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$$
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k = \rho E+\frac1c \rho v\cdot H
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$$
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这里 $k$ 是三维的向量。把它的第四个维度补上:
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$$
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k_4 = \frac{i}{c}\rho E\cdot v
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$$
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考虑一个粒子(或者说,一团带电物质)的机械动量(乘以 $c$,作为前三个维度)和动能(乘以 $i$,作为第四个维度),可以得到:
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$$
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c\int k_1 \dd r \dd t = u_1 = cp_x \\
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c\int k_4 \dd r \dd t = u_4 = iT
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$$
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||||
向量 $u$ 被称为粒子的四维速度。可以检验,洛仑兹变换只改变这个向量的方向,不改变这个向量的“长度的平方”(自己与自己的“内积”,这里“内积”按照表面来计算,允许出现负数),并将这个向量的“长度的平方”的相反数定义为 $u^2$,$u^2$ 在洛仑兹变换下保持不变:
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$$
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u^2 = T^2 - (u_x^2 + u_y^2 + u_z^2)
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$$
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考虑粒子静止时(也就是拿它自己作为参考系时)的能量,可以得到:$u^2=mc^2$。这里 $m$ 指的是静止质量。
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再定义一个四维向量 $p$(与上面的 $p_x$ 不同,它不是机械动量):
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$$
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p = u + eA
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$$
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这里的 $p$ 的前三个维度指的是总动量(当然,乘以了一个 $c$),最后一个维度指的是总能量(乘以 $i$)。
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TODO: 为什么?
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这个向量被称为动量-能量向量。它满足:
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$$
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\sum_\mu (p_\mu - eA_\mu)^2 = -u^2
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$$
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若将第四个维度(能量)拆分出来,就可以得到:
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$$
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\sum_\mu(p_\mu-eA_\mu)^2-(E-e\varphi)^2=-u^2
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$$
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也就是:
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$$
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E=e\varphi+\sqrt{\sum_\mu(p_\mu-eA_\mu)^2+u^2}
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$$
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#### 4. Non-electromagnetic nature of the inertial mass
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#### 5. 'Particle properties' of light waves
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### 3. Field of a point charge and emission of light
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#### 1. The Wiechert potentials.
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对于运动的点电荷,它导致的势场不再是 $1/r$ 的简单形式。
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它同时会给出一个电标势和一个磁矢势。
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这个章节详细推导了这个过程。
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这个推导过程会用到之前洛仑兹变换相关的理论。
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#### 2. Field strengths of an arbitrarily moving point charge
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尽管可以由势求导得到场,但需要考虑两个参考系之间的洛伦兹变换(一些变量是在另一个参考系里),所以导致求得的结果很复杂。
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#### 3. The Hertzian vector of a system of charges. Dipole and quadripole moment
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这里推导了距离观察点很远处的电荷运动引起的电磁场,其中前几项分别是电偶极子、电四极子、磁偶极子的贡献。
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在推导的过程中,不拘泥于电荷具体是如何运动的(只要运动范围远远小于到观察点的距离就行)。
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运动方式抽象成一个函数,叫 $Z$。
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将具体的运动代入就可以解出具体情况下的场。
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#### 4. Emission of light
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没什么特殊的。
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### 4. Reaction of the field, line breadth
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运动(指加速度不为零)的带电粒子会辐射能量,导致它运动得越来越慢(指幅度减小等,不是仅指速度减小)。
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为了考虑这个过程,我们有两个方法。第一种方法分为两步:
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1. 假定不损失能量(运动不减慢),计算它的运动导致的场。
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2. 计算它受到自己产生的电磁场的作用,这个作用会导致它运动逐渐减慢。
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第二种方法则是直接一步计算出结果。
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第二种方法除了给出这个结果,还会给出其它的有用结果。
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#### 1. First way: the energy balance
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使用能量守恒(辐射出去的能量等于受到的阻力)来计算。
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结论是:受到的阻力与电荷量的平方成正比,与加速度成正比。
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#### 2. Second way: the self-force
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先按照在一个空间内分布有一些电荷来计算,最后再将这些电荷集中到一个点上取极限。
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可以看到,最低阶的近似与第一种方法的结果一致,并且与电荷如何分布的无关;
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更高阶的近似则与电荷如何分布的有关,且当电荷分布在一个点上时,这个结果会消失。
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当考虑到相对论效应时(如果电荷运动得很快),得到的结果会有一些不同。
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#### 3. Self-energy
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这里讨论了粒子自身的质量是否可能全部是由电磁力导致的,结论是否定的,也就是纯粹的电荷系统不能保持稳定。
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#### 4. Line breadth
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按照以上理论,谐振子将不会永远振动下去,它发射的光谱线会有一定的宽度。
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这个宽度是 $\gamma/2$,$\gamma$ 就是那个阻尼系数。
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### 5. Scattering, absorption
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#### 1. Scattering by free electrons
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这里推导了单个电子造成的散射。
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在波长不太小(远大于电子半径)的情况下,各个方向的散射光的强度的总和与入射光的频率无关,
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只与入射光的强度和测试点距离电子的距离有关(成正比并且比例系数是一个常数)。
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这里的
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#### 2. Scattering by an oscillator
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可以得到:如果谐振子的频率与入射光频率相差很远,那么散射强度将较小,进一步如果谐振子频率很低,结果和自由电子接近;
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如果谐振子频率与入射光很接近,散射将很强。
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#### 3. Absorption
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可以得到:在远离共振频率时,吸收强度与频率无关,并且吸收较小;
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在接近共振频率时,吸收强度很大,并且与时间、入射强度成正比。
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### 6. The field as a superposition of plane waves. Hamiltonian form of the field equations
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将电磁理论使用哈密顿力学表出。
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#### 1. The pure radiation field
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假定要研究的空间中没有电荷也没有电流,那么就有:
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$$
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\begin{aligned}
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\frac{1}{c^2}\pdv[2]{A}{t} - \nabla^2 A &= 0 \\
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\frac{1}{c^2}\pdv[2]{\varphi}{t} - \nabla^2 \varphi &= 0
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\end{aligned}
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$$
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取 $\chi = \varphi ct$,带入替换,就可以得到 $\varphi = 0$,也就是电磁场将由 $A$ 完全决定(通过第一个式子和洛仑兹规范),即:
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$$
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\begin{aligned}
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\frac{1}{c^2}\pdv[2]{A}{t} - \nabla^2 A &= 0 \\
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\nabla \cdot A &= 0
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\end{aligned}
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$$
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注意到方程是线性的。将 $A$ 分解到一系列正交归一(指箱归一化)的基上,并取定基不随时间变化、系数不随空间变化。这里的基可以取为稍后导出的哈密顿量的本征态,也可以是别的,只要是一系列正交归一的矢量就可以了。
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$$
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A = \sum_\lambda q_\lambda(t)A_\lambda(r)
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$$
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这里的归一是指:
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$$
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\int(A_\lambda\cdot A_\mu)\dd r = 4\pi c^2\delta_{\lambda\mu}
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$$
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并定义 $v_\lambda$ 使得:
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$$
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\pdv[2]{q_\lambda}{t}+v_\lambda^2q_\lambda=0
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$$
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那么就有:
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$$
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\begin{aligned}
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\nabla^2 A_\lambda+\frac{v_\lambda^2}{c^2}A_\lambda &= 0 \\
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\nabla \cdot A_\lambda &= 0
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\end{aligned}
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$$
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电磁场能量:
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$$
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U=\frac{1}{8\pi}\int(E^2+H^2)\dd{r}
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$$
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容易算出对应 $q_\lambda A_\lambda$ 的能量是:
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$$
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U_\lambda =\frac12\left((\pdv{q_\lambda}{t})^2+v_\lambda^2q_\lambda^2\right)
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$$
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由于正交,由 $A_\lambda$ 导出的电磁场也是正交的,这导致总能量也是其的叠加。
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在相当多的情况下,我们使用的电磁场都是三角函数,并因此经常将电磁场写成复数的形式,其中的实部对应于实际的物理量,虚部仅仅为了方便计算而存在。
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在经典哈密顿力学看来,直接引入复数会导致广义坐标和动量变得不正则(不是实数),也即导致哈密顿方程不再成立;需要略微修改结果才行。这些细节没有必要再讨论。
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#### 2. Hamiltonian of a particle
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使用之前的推导,可以得知粒子的哈密顿量为:
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$$
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E=e\varphi+\sqrt{\sum_\mu(p_\mu-eA_\mu)^2+u^2}, u^2=mc^2
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$$
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其中 $A_\mu$ 指粒子所在位置的三维的矢势,$m$ 指粒子的静止质量,$p_\mu$ 指粒子的总动量(不仅仅是机械动量)。
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#### 3. General system of particles and field.
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## II. Quantum Theory of the Pure Radiation Field
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TODO: 只读了 7。
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### 7. Quantization of the radiation field
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#### 1. Introduction
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没有什么稀奇的。
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#### 2. Quantization of the pure radiation field
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将矢势拆分成一系列的平面波,量子的不连续性体现在平面波前面的系数上不能取任意值,而只能是某个值的整数倍。
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#### 3. The state vector of the radiation field.
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除了海森堡图景和薛定谔图景,常用的还有一个叫“相互作用绘景”,这时时间导致的影响一部分被归结到态矢量上、一部分被归结到算符上。对于只辐射的情况来说,相互作用绘景与海森堡绘景是一样的。具体来说:
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* 薛定谔绘景中,态矢量上面随时间演化的相位,在相互作用绘景中被归结到算符上(就像海森堡绘景那样)
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* 态矢量上面的时间呢?还没有讨论到。
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## III. The Electron Field and its Interaction with Radiation
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### 11. The relativistic wave
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#### 1. Dirac's equation
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### 19. Dispersion and Raman effect
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在这一节中,我们考虑一个原子造成的散射。
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散射可能是瑞丽散射(散射前后原子状态相同),也可能是拉曼散射(散射前后原子状态不同)。
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考虑入射光子能量比原子振动的能量相近还是大得多,大得多的情况下,电子可以作为自由电子考虑,这会在第 22 节中详细讨论,这里只讨论差不多的情况。
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TODO: 这是什么意思?
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这样的光大约是
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一些声子模式会改变材料的电极化率(即外加电场会导致多少比率的电偶极矩),这些模式对应拉曼散射。
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理论上分析 Gamma 点的声子模式,它在各个方向上应该是对称的;
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但对于稍微偏离 Gamma 点的声子模式,它们的对称性可能会被破坏(只要不是立方晶系),导致不完全简并。
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此外,对于红外活性的声子模式,它可能与电子发生耦合,导致拉曼散射的声子模式将不是位于 Gamma 点的那些。
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对于没有中心反演对称性的晶体,它的光学支声子模式大多可以同时满足上面两点;对于有中心反演对称性的晶体,则大多只能满足其中一点。
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根据对称性,将晶体分为三类讨论。
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拉曼/n-SiC拉曼散射光谱的温度特性.md
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拉曼/n-SiC拉曼散射光谱的温度特性.md
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# n-SiC拉曼散射光谱的温度特性
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* 随着温度升高,大多数峰会向左移动,表明晶格恢复力减小。
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* A1(LO)模式会向右移动。
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* LOPC先右移再左移。
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* 他认为 4H 中 N 有四个峰,395 处的峰是局域模(引用文献 17),526、572 为自旋谷分裂(引用文献 5),635 处为深能级缺陷(引用文献 5)。
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# n-SiC的电子拉曼散射及二级拉曼谱研究
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这篇文章给出了很多有用的信息,包括
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* 200 左右的那个峰,它们将它的不对称性解释为 Fano 共振。这意味着背景中有一个其它原因的散射。这个是什么?(原文:较宽的电子态)
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* 在他们的实验中(掺杂浓度比较高),LOPC 只有一个峰,并且随着掺杂浓度的增加,会向右移动。
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它们这里同时这里给出了 LOPC 的拟合公式,我们可以尝试用它来拟合一下我们的数据。
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* 他们认为,N 会导致一些 400 到 650 之间的峰,产生的原因主要是自旋导致的能谷分裂。(N-14 的核自旋为 1)。这是真的吗?(是否可以与计算对比)
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* 395 处的 N 电子峰,他们认为会受到特定波长的激光(更长)的影响而增强。这是真的吗?(与文献 6 对比)
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* 给出了一些参考文献,包括:
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* 6,为 4H 的拉曼电子散射
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* 13,为 6H 的 510 附近的“电子缺陷”
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* 14,计算了 6H 里 N 的能谷分裂大小
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||||
* 16,“指出掺氮 SiC 中电子拉曼散射信号的数目要大于不等效施主位的数目”
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* 17,理论预测的复合点缺陷(N_CC_Si)
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||||
* 还讨论了二次拉曼的结果。
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拉曼/碳化硅单晶抛光片.md
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拉曼/碳化硅单晶抛光片.md
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只有常见的几个拉曼峰,没有细节上我们怀疑存在的峰。
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