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book/拉曼/Resonance enhancement of electronic Raman scattering from nitrogen defect levels in silicon carbide.md
2024-11-14 02:45:14 +08:00

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# Resonance enhancement of electronic Raman scattering from nitrogen defect levels in silicon carbide
* 提到了 Fano 共振,引用了文献 6
* 提到了 4H 中共 4 个与 N 有关的峰,三个在 400-600 之间,一个在 57 处(需要在低温下才能看到)。
认定这些峰是测试了不同浓度的片子,发现随着浓度升高而出现了这些峰;没有解释原理。
注意峰的个数比 N 掺杂的位点要多。
530 处的峰他认为可能还有隐藏的(因为 530 的峰不对称)。
作者认为可能与 N 的振动有关,但没有给定理由。
* 500 开始到之后出现了一个底座pedestral他们认为是与某种二阶散射有关对应文献 11 15
* 随着掺杂浓度增加530 的峰会左移。
* 200 处的 Fano 共振,引用了文献 10
* 对于 6H 中的各种可能与 N 有关的峰,作者与其它文献做了对比,结果一致,包括 6 8
* 掺杂的片子带有一些绿色,表示它们在红色和红外附近有一些吸收(引用了文献 16 17它们认为可能与 N 杂质能级有关,
可能是掺杂导致的深能级。
关于金刚石中的 N 掺杂引起的深能级,引用了文献 18。关于使用红外测试这些深能级引用了文献 19 20 21