252 B
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Deep ultraviolet Raman scattering characterization of ion-implanted SiC crystals
Abstract
在两个不同的温度(室温、500 摄氏度)下离子注入 P,并在不同温度下退火,然后使用拉曼研究注入量和恢复情况。
在两个不同的温度(室温、500 摄氏度)下离子注入 P,并在不同温度下退火,然后使用拉曼研究注入量和恢复情况。