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# n-SiC的电子拉曼散射及二级拉曼谱研究
这篇文章给出了很多有用的信息,包括
* 200 左右的那个峰,它们将它的不对称性解释为 Fano 共振。这意味着背景中有一个其它原因的散射。这个是什么?(原文:较宽的电子态)
* 在他们的实验中掺杂浓度比较高LOPC 只有一个峰,并且随着掺杂浓度的增加,会向右移动。
它们这里同时这里给出了 LOPC 的拟合公式,我们可以尝试用它来拟合一下我们的数据。
* 他们认为N 会导致一些 400 到 650 之间的峰产生的原因主要是自旋导致的能谷分裂。N-14 的核自旋为 1。这是真的吗是否可以与计算对比
* 395 处的 N 电子峰,他们认为会受到特定波长的激光(更长)的影响而增强。这是真的吗?(与文献 6 对比)
* 给出了一些参考文献,包括:
* 6为 4H 的拉曼电子散射
* 13为 6H 的 510 附近的“电子缺陷”
* 14计算了 6H 里 N 的能谷分裂大小
* 16“指出掺氮 SiC 中电子拉曼散射信号的数目要大于不等效施主位的数目”
* 17理论预测的复合点缺陷N_CC_Si
* 还讨论了二次拉曼的结果。