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陈浩南 2024-04-26 16:41:26 +08:00
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# Effect of step edges on the adsorption behavior on vicinal AlN(0001) surface during metal-organic vapor phase epitaxy: An ab initio study

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# Analytical potential for atomistic simulations of silicon, carbon, and silicon carbide
这里重新拟合了各个参数,并将 Si-C 对的参数单独拿出来拟合而不是直接使用 Si 和 C 的平均值。
拟合时主要使用了纯 Si、纯 C 和 3C-SiC。截断取得也不算很大最大的为 Si-Si 2.96 Å。

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# Carbon Defects and Defect Reactions in Silicon
这是 `tersoff_1990` 的来源。
`tersoff_1989` 不同,这个势是用来研究 Si 中的 C 缺陷的,并且替换了 C 部分的参数使得它能够较好地描述金刚石中的空位能量。同时将截断函数替换为硬截断函数2.5 Å)。

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# Chemical order in amorphous silicon carbide
这是 `tersoff_1994` 的来源。与 `tersoff_1990` 不同,这个势是用来研究非晶态 SiC 的,它修改了截断函数的范围,并且调整了 $\chi_\text{Si C}$ 的值,用于研究非晶态 SiC 中的化学序Chemical order

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# Empirical Interatomic Potential for Carbon, with Applications to Amorphous Carbon
这个是 `tersoff_1989` 的 C 部分。
使用几个实际存在的和假想的晶型,以及金刚石的晶格常数和体积模量来拟合。

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# Empirical interatomic potential for silicon with improved elastic properties
这是 `tersoff_1988` 的 Si 部分。使用 elasticity tensor 来拟合。

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# Empirical potential approach for defect properties in 3C-SiC
其实还是 tersoff 那一套。拟合用来描述纯 Si、纯 C、和 3C-SiC 中间隙位杂质的势。
截断能也取得很小2.5 Å)。

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# Modeling solid-state chemistry: Interatomic potentials for multicomponent systems
这个是 `tersoff_1989` 势。
$$
E = \frac12 \sum_{i\neq j} V_{ij} \\
V_{ij} = f_{\text C}(r_{ij})(f_{\text R}(r_{ij}) + b_{ij}f_{\text A}(r_{ij}))
$$
其中 $f_C(r)$ 是平滑截断函数,对于 Si 来说是在 2.7 到 3 A 之间截断,对于 C 来说是在 1.8 到 2.1 A 之间截断。
$f_R(r)$ 是排斥部分,$f_A(r)$ 是吸引部分,它们都是一个简单的指数函数。
$b_{ij}$ 是一个用于修正多个原子时的吸引部分的参数。它的表达式较为复杂,并且考虑了三体势(考虑了键与键之间的夹角)。
这个势是先对单质 C 和单质 Si 进行拟合(各使用几个参数,不太多,不超过 10 个),
然后使用仅仅一个参数 $\chi_{\text{Si C}}$ 来拟合 SiC 中的情况(这个参数在 $b_{ij}$ 中);
计算 Si-C 键的能量时,使用的其它参数直接取 Si 和 C 的参数的平均值(算术平均或几何平均)。
这个截断取得非常短,导致完全不能区分 SiC 的晶型(作者原话)。
$\chi_{\text{Si C}}$ 本身是使用 3C-SiC 的形成能来拟合的。

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@ -0,0 +1,6 @@
# Molecular dynamics determination of defect energetics in beta-SiC using three representative empirical potentials
这个是 SiC MEAM 的来源。
MEAM 的拟合比较复杂,有空再看。
它也是通过先分别拟合 Si 和 C然后再选取少数几个参数拟合 SiC。