diff --git a/拉曼/Raman analysis of defects in n-type 4H-SiC.pdf b/拉曼/Raman analysis of defects in n-type 4H-SiC.pdf deleted file mode 100644 index e808cba..0000000 --- a/拉曼/Raman analysis of defects in n-type 4H-SiC.pdf +++ /dev/null @@ -1,3 +0,0 @@ -version https://git-lfs.github.com/spec/v1 -oid sha256:0b277f158e48229f77cd4b8d72017c70941acf8ee4dda2e6171a2608ba811142 -size 1591397 diff --git a/第二个论文/新分类/README.typ b/第二个论文/新分类/README.typ index 216440b..0a496de 100644 --- a/第二个论文/新分类/README.typ +++ b/第二个论文/新分类/README.typ @@ -140,3 +140,20 @@ 6H 中也会出现一些峰。 - 10: 拉曼中,线宽与寿命成反比。 - 19: 基态能谷分裂能够促进电离。 + += Raman analysis of defects in n-type 4H-SiC + +这篇文章在不同的三个位置(没有缺陷的地方和两个缺陷附近)测试了拉曼光谱。 +它指出了五个 N 峰。 +395 可能(may be)是局域模,526 和 572 与 k 位谷分裂有关,635 与深能级缺陷有关。57 处还有一个 h 位的谷分裂。 +此外,还测试了二阶拉曼,发现六边形缺陷会影响两个二阶拉曼的峰(来源于影响了 M 点和 K 点的声子), + 但如何影响的还未知。 + +== 引用 + +- 8: 6H-SiC 的 LOPC。 +- 9-11: N 峰。尤其是 11。 +- 18: 拟合 LOPC 的公式(m-CDF)。 +- 20: Kirczenow’s shell model,用来解释非直接带隙半导体中,杂质键的激发。 +- 21: 635 峰与深能级缺陷有关。 +- 2,5: 缺陷影响 SiC 性能。 diff --git a/第二个论文/新分类/已分类/Raman analysis of defects in n-type 4H-SiC.pdf b/第二个论文/新分类/已分类/Raman analysis of defects in n-type 4H-SiC.pdf new file mode 100644 index 0000000..0c61691 --- /dev/null +++ b/第二个论文/新分类/已分类/Raman analysis of defects in n-type 4H-SiC.pdf @@ -0,0 +1,3 @@ +version https://git-lfs.github.com/spec/v1 +oid sha256:b954616765b44f9d0ed4db59703f4a9c5a1243c36e31dccdf18e8d9f424a579b +size 1595297