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2.2 KiB
Typst
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Typst
= TODO
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#import "@preview/cheq:0.2.2": checklist
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#show: checklist
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- [/] 文本
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- [/] introduction
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- [/] method
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- [x] 几个外延片
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- [x] 中文
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- [x] 英文
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- [x] 调整语言
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- [/] 拉曼实验
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- [x] 仪器设置，三个入射配置
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- [x] 中文
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- [x] 英文
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- [x] 调整语言
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- [ ] 坐标轴定义
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- [ ] 偏振
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- [x] 模型总述
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- [x] 无缺陷和点缺陷的模型大小、结构
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- [x] 中文
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- [x] 英文
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- [x] 填充数据和引用
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- [ ] 点缺陷画图（h k）
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- [x] 使用 inkscape 实现渐变
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- [ ] 确定要展示哪些结构
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- [ ] 点缺陷画图（复杂缺陷）
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- [ ] 面缺陷的模型大小、结构
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- [/] 第一性原理计算和声子计算的工具
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- [x] 中文
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- [ ] 英文
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- [ ] 填充数据和引用
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- [/] results
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- [x] 总述
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- [/] 无缺陷
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- [/] 总述
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- [/] 声子位置与实验对应
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- [x] 中文
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- [x] 英文
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- [x] 调整语言
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- [ ] 调整画图
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- [x] 每个位置有 21 个模式
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- [x] 中文
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- [x] 英文
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- [x] 调整语言
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- [/] 弱极性
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- [x] Gamma 近似
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- [x] 中文
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- [x] 英文
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- [x] 调整语言
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- [x] 表示
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- [x] 中文
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- [x] 英文
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- [x] 调整语言
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- [/] 表格
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- [x] 大致内容
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- [ ] 可见性
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- [/] 估算拉曼张量
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- [x] 中文
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- [x] 英文
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- [ ] 调整语言
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- [ ] 填充分离 Si C 结果的数据，对称分布小量
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- [ ] 第一性原理计算
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- [ ] 中文
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- [ ] 英文
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- [ ] 调整语言
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- [ ] 附录
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- [ ] 分离 Si
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- [ ] 推导细节
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- [ ] 杂项
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- [ ] N#sub[C]C#sub[Si] 有什么好处？
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- [ ] 是否有其它需要研究的点缺陷？
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- [ ] 实验
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- [ ] 实验
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- [ ] 测试不同片子的背面 LOPC，确认它们的掺杂是否相同
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- [ ] 拟合
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- [ ] 拟合最后一次正入射的结果，确定峰位移与掺杂等的关系
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- [ ] 拟合带 LOPC 的 LO
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